現代電子商品層出不窮，但是如此同時電子工業產生的工業廢水也越來越多。電子工業（如半導體器件、集成電路、顯像管等），大量使用各種級別的純水、高純水清洗半成品和成品。微電子工業（半導體器件、集成電路、顯像管、電子檢測、計算機主機板等）的產品質量、合格率、可靠性與純水或高純水的水質有著密切的關系。隨著電子工業的發展，尤其是半導體工業的迅猛發展，對純水的水質要求也不斷提高，對于水處理的要求也越來越高，以前，那種將電阻率做為唯一衡量水質純度的做法，經實踐檢驗已經遠遠不夠，對水中陰離子含量、陽離子含量、顆粒數、有機物、細菌等逐步有了定量的指標和限制。
在20世紀70年代中期，微粒、細菌、二氧化硅、鈉和總有機碳這五項指標的確定，才確保了集成電路的質量。進入80年代，由于集成度的再提高，對純水水質要求尤其是微粒、細菌更加嚴格，在水處理基礎上又增加了溶解氧的限制指標，因為溶解氧的濃度過高，在硅片清洗過程中，氧氣放出，不但會產生泡沫使晶片表面無法完全清洗，而且熱超純水中的溶解氧還會腐蝕集成電路晶片。
20世紀90年代，集成電路已經發展到兆位級的亞微米技術，晶片的加工、清洗對純水的水質要求就更加嚴格。為了保證生產需要，各大純水處理公司均有自己一套流程系統，以適應不同集成度生產的需求，雖不盡完全相同，但基本都利用了反滲透、離子交換、超濾和其他膜分離技術，形成了一系列相應的標準流程。我國微電子工業發展比較緩慢，超純水制備技術也比世界發達國家落后很多，在已建成的集成電路生產廠中所有純水制備均采用國外引進設備。
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